| Wellenlängenbereich | : | 190-1100nm |
| Spektrale Bandbreite | : | 2nm (optional 5nm, 4nm, 1nm, 0,5nm) |
| Wellenlängengenauigkeit | : | ±0,3 nm |
| Reproduzierbarkeit der Wellenlänge | : | ≤0,15nm |
| Photometrisches System | : | Doppelstrahl, automatischer Scan, zwei Detektoren |
| Photometrische Genauigkeit | : | ±0,3τ (0~100τ) ±0,002A (0~0,5A) ±0,004A (0,5~1A) |
| Photometrische Reproduzierbarkeit | : | ≤0,15 %τ |
| Arbeitsmodus | : | T, A, C, E |
| Photometrischer Bereich | : | -0,3-3,5A |
| Streulicht | : | ≤0,05 %τ (Nal, 220 nm, NaNO2 360nm) |
| Grundlinienebenheit | : | ±0,002A |
| Stabilität | : | ≤0.001A/h (bei 500nm, nach Erwärmung) |
| Lärm | : | ±0,001 A (bei 500 nm, nach dem Aufwärmen) |
| Anzeige | : | 6 Zoll hohes hellblaues LCD |
| Detektor | : | Fotodiode aus Silizium |
| Leistung | : | Wechselstrom 220 V/50 Hz, 110 V/60 Hz 180 W |
| Maße | : | 630 × 470 × 210 mm |
| Gewicht | : | 26kg |
| Wellenlängenbereich | : | 190-1100nm |
| Spektrale Bandbreite | : | 2nm (optional 5nm, 4nm, 1nm, 0,5nm) |
| Wellenlängengenauigkeit | : | ±0,3 nm |
| Reproduzierbarkeit der Wellenlänge | : | 0,15 nm |
| Photometrisches System | : | Überwachung des Split-Beam-Verhältnisses, automatische Abtastung, duale Detektoren |
| Photometrische Genauigkeit | : | ±0,3τ (0~100τ) ±0,002A (0~0,5A) ±0,004A (0,5~1A) |
| Photometrische Reproduzierbarkeit | : | 0,2 %τ |
| Arbeitsmodus | : | T, A, C, E |
| Photometrischer Bereich | : | -0,3-3A |
| Streulicht | : | ≤0,05 %τ (Nal, 220 nm, NaNO2 360nm) |
| Grundlinienebenheit | : | ±0,002A |
| Stabilität | : | ≤0.001A/30min (bei 500nm, nach Aufwärmen) |
| Lärm | : | ±0,001 A (bei 500 nm, nach dem Aufwärmen) |
| Anzeige | : | 6 Zoll hohes hellblaues LCD |
| Detektor | : | Fotodiode aus Silizium |
| Leistung | : | Wechselstrom 220 V/50 Hz, 110 V/60 Hz 180 W |
| Maße | : | 630 × 470 × 210 mm |
| Gewicht | : | 26kg |
| Wellenlängenbereich | : | 190-1100nm |
| Spektrale Bandbreite | : | 2 nm (5 nm, 1 nm, optional) |
| Wellenlängengenauigkeit | : | ±0,3 nm |
| Reproduzierbarkeit der Wellenlänge | : | 0,2 nm |
| Photometrisches System | : | Einzelstrahl, ebenes Gitter von 1200L/mm |
| Photometrische Genauigkeit | : | ±0,3τ (0~100τ) ±0,002A (0~0,5A) ±0,004A (0,5~1A) |
| Photometrische Reproduzierbarkeit | : | ≤0,15 %τ |
| Arbeitsmodus | : | T, A(-0,3-3A), C, E |
| Photometrischer Bereich | : | -0,3-3A |
| Streulicht | : | ≤0,05 %τ (Nal, 220 nm, NaNO2 360nm) |
| Grundlinienebenheit | : | ±0,002A |
| Stabilität | : | ≤0.001A/30min (bei 500nm, nach Aufwärmen) |
| Lärm | : | ±0,001 A (bei 500 nm, nach dem Aufwärmen) |
| Anzeige | : | 6 Zoll hohes hellblaues LCD |
| Detektor | : | Fotodiode aus Silizium |
| Leistung | : | Wechselstrom 220 V/50 Hz, 110 V/60 Hz 140 W |
| Maße | : | 530 × 410 × 210 mm |
| Gewicht | : | 18kg |
| Wellenlängenbereich | : | 320-1100nm |
| Spektrale Bandbreite | : | 2 nm (5 nm, 1 nm, optional) |
| Wellenlängengenauigkeit | : | ±0,5 nm |
| Reproduzierbarkeit der Wellenlänge | : | 0,2 nm |
| Photometrisches System | : | Einzelstrahl, ebenes Gitter von 1200L/mm |
| Photometrische Genauigkeit | : | ±0,3τ (0~100τ) ±0,002A (0~0,5A) ±0,004A (0,5~1A) |
| Photometrische Reproduzierbarkeit | : | ≤0,15 %τ |
| Arbeitsmodus | : | T, A, C, E |
| Photometrischer Bereich | : | -0,3-3A |
| Streulicht | : | ≤0,05 %τ (Nal, 220 nm, NaNO2 360nm) |
| Grundlinienebenheit | : | ±0,002A |
| Stabilität | : | ≤0.001A/30min (bei 500nm, nach Aufwärmen) |
| Lichtquelle | : | Wolfram-Halogenlampe |
| Anzeige | : | 6 Zoll hohes hellblaues LCD |
| Detektor | : | Fotodiode aus Silizium |
| Leistung | : | Wechselstrom 220 V/50 Hz, 110 V/60 Hz 140 W |
| Maße | : | 530 × 410 × 210 mm |
| Gewicht | : | 18kg |